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      • HMDS涂膠機的工作流程

        HMDS涂布烤箱通過對HMDS預處理過程的工作溫度,處理時間,處理時保持時間等參數可以在硅片,基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附.

      • HMDS涂膠機的技術指標和優點

        在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝尤為重要。

      • HMDS涂膠烤箱的工作流程

        在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也尤為重要。

      • HMDS涂膠系統功能實現原理

        在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也尤為重要。

      • HMDS真空烤箱有哪些產品特點?

        一開始,人們用液態的HMDS直接涂到晶片上,然后借著晶片的高速旋轉在晶片表面形成一層HMDS膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結合問題,但隨著光刻線條的越來越細,膠的越來越薄,對粘附力提出了更高的要求,于是我們研制出了現在的H...

      • HMDS預處理系統功能實現原理簡介

        在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也尤為重要。

       
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