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      電子元器件行業

      自動管式爐

      12寸晶元自動管式爐

      • 產品信息

      一、設備名稱、型號: 12寸晶圓自動管式爐


      二、系統組成
      2.1FAB上下料
       2個上下料口(并列)
       FOUP ID 識別
       Wafer位置識別
       操作啟動開關

      2.2晶元輸送
      2.2.1FBA開蓋
         FOUP固定,解鎖,取蓋
      2.2.2晶元輸送機械手
         雙臂式傳輸
         高純度AL2O3托盤
         按規劃路徑將晶元從FOUP傳送至爐體裝  料腔中
      2.2.3爐體開蓋
      ?將爐體裝料腔腔門打開

      2.3爐體(熱處理)
      2.3.1加熱腔
        外部采用不銹鋼外套,中部采用FEC加熱器和相應保溫材料,內部為石英爐管
        多層環形加熱器,有效使用高度 > 1000mm
        底部通入工藝氣氛,O2和N2可編程選擇
        煙氣冷凝回收
        底部具有自保護蓋體功能
        高溫焦油裂解功能
        降溫方式:鼓風機將空氣吹入爐管與加熱器之間的夾腔,強制風冷降溫。
        多路多層環形進氣,保證爐膛的冷卻可控
      2.3.2裝料腔
      石英支架,處理量為100PCS 12inch晶圓
      升降采用移動式滑臺機構(無桿電缸),

      2.4控制柜
      2.4.1氣源箱
      ?對于空氣,O2,N2進行邏輯控制
      ?調節各路進氣的流量
      2.4.2電源箱
      ?動力配電
      ?儀器儀表放置
      ?氧含量分析系統可選
      2.5控制系統
      ?人機界面采用觸摸屏方式
      ?核心控制器采用嵌入式控制器
      ?超溫保護為獨立檢測器件
      ?具有氧含量檢測功能
      ?運動控制為伺服/步進控制單元
      ?傳輸為專業晶元傳輸機器人
      ?軟件具有功能:溫度控制,氣氛控制,工藝編輯,數據記錄,圖表顯示.

      三、基本配置
      3.1處理產品:12inch 晶圓
      3.2處理量:90PCS/管,共180PCS
      3.3加熱器:圓形FEC加熱板
      3.4加熱區域:>1000mm
      3.5外形尺寸:
          本體:2500×3500×3500(W×D×H)
          控制柜:800×600×2200(W×D×H)
      3.6上料口:2
      3.7機械手:1

      四、技術指標
      4.1長期使用溫度: 350℃,溫度上限:750℃;
      4.2升溫速率:>30℃/min
      4.3降溫速率:>5℃/min
      4.4加熱功率:36kW(單爐);
      4.5加熱溫區: 3個;
      4.6爐溫均勻性: ±7℃(350℃恒溫);
      4.7程序控制:P.I.D控制;
      4.8溫度控制方式: SSR
      4.9控溫熱偶: K分度;
      4.10氣氛: N2/O2;
      4.11爐膛材料:石英玻璃;
      4.12保溫材料:陶瓷纖維;
      4.13氣氛控制:多路流量計調節進氣,流量計量程為24~240L/min;
      4.14排氣系統:在頂部設置排氣煙囪,用于廢氣排放,回收;
      4.15設備重量:約2t;

      *技術細節變動之處,恕不另行通知,具體設備參數以咨詢結果為準。


      真萍科技作為專業的熱處理設備制造廠商,可根據客戶工藝需求定制您需要的滿意產品,有需求的客戶詳情請咨詢400-608-2908。

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