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      行業新聞

      真萍科技HMDS涂膠烤箱的工藝流程

       發布時間:2019-09-25 點擊:載入中...

      真萍科技HMDS涂膠烤箱的工藝流程

              在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也尤為重要。
      HMDS烤箱
       一、HMDS涂膠烤箱的原理
            HMDS涂膠系統通過對烘箱內HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
      HMDS

       

      二、HMDS涂膠烤箱的一般工作流程:

        2.1首先設定烤箱工作溫度
        2.2打開真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一真空度后
        2.3開始充入氮氣,充到達到某一低真空度后
        2.4再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后
        2.5開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分
        2.6然后再次開始抽真空
        2.7加熱HMDS管道
        2.8充入HMDS氣體到達設定時間后,停止充入HMDS藥液
        2.9三面加熱箱體使溫度達到150度左右
        2.10進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應
        2.11當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空
        2.12充入氮氣,完成整個作業過程


      *文章僅為個人觀點,不做為技術參考。


      真萍科技作為專業的晶圓HMDS涂布設備制造廠商,可根據客戶需求定制您需要的滿意產品,有需求的客戶詳情請咨詢400-608-2908或搜索真萍科技了解更多相關信息。

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